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元素分析氩气纯化器半导体氮气净化设备微电子氧气净化装置本装置以工业普氧为原料气,经催化冷却,二级吸附,精密过滤的方法除去氧中微量杂质氢,甲烷,一氧化碳,二氧化碳,水汽和尘埃获得高纯度的氧气。
元素分析氩气纯化器半导体氮气净化设备微电子氧气净化装置本产品结构简单,系统气密性良好,所用催化剂(可视原料气的杂质含量来调整工作温度)可长期使用无需再生,二级双塔并联结构的干燥器延长了干燥器再生时间,再生设定周期168小时,节能高效,*大限度的保证了纯气的品质,高效吸附剂可在产品内再生后重复使用。适用于需要大量高纯氧气半导体、光纤、显像管等主要生产部门。
元素分析氩气纯化器半导体氮气净化设备微电子氧气净化装置技术指标
原料气:液氧
处理气量 100Nm3/h
工作压力 0.4-0.6Mpa
原料氧的纯度:> 99.7%
纯化后: CH4<0.3ppm CO2<0.5ppm
H2O<1.5ppm 尘埃 颗粒≤3.0粒/升(100级)
装机功率: 380V 1
元素分析氩气纯化器半导体氮气净化设备微电子氧气净化装置氮气纯化装置的技术指标:
1、处理气量 >6m3/h
2、原料氮气纯度≥99.9%;允许氧含量≤400PPm,水≤500PPm(即露点低于-25℃),
其他杂质≤100PPm。
3、工作压力 0.4-0.6MPa可调
4、纯化后纯度符合并高于GB/T8979-2008高纯氮99.9999%指标
1、处理气量:≥6Nm3/h
2、氮气纯度:O2≤0.5PPm
露点≤-76℃, 即H2O≤1PPm
CO+CO2≤0.01PPm
S的氧化物≤0.01PPm
尘埃粒子: ≥0.3μm的固体颗粒物≤3.5个/升(达到电子级
3、工作压力:≤0.6Mpa
4、电 源:220V 50HZ
5、除氧器工作温度:常温
6、干燥器工作温度:常温
7、干燥器再生温度:350℃
除氧器再生温度:350℃
8、装机功率:6KW
9,外形尺寸 800×800×1700mm
10、重量450kg
元素分析氩气纯化器半导体氮气净化设备微电子氧气净化装置装置组成
1、吸附干燥器
2、脱氧塔
3、精密镍管过滤器
4、配套仪器仪表及应用低压电器
5、气动阀门、电磁阀,管路
6、机箱
7,再生冷却器